等离子清洗机电源属于150W 13.56MHz的射频电源。作为一种精密干法清洗设备 .主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活……

　　/烤胶机ET-200S可在光刻工艺中的涂胶后的软烘，暴光后烘，显影后的坚膜，磨片粘片熔腊等，加热台它采用整体铸造，加热板作为加热体，增强了设备的安全性。采用单片机作为控制核心部件，精准的控温精度，紧凑美观。 　　烤……

　　晶圆热板台对晶圆、玻璃基板等的超薄工件进行均匀加热，晶圆均匀加热装置是一种特殊设计的均匀加热装置。晶圆烤盘为保证晶圆高温测试精度，要求整个吸盘表面各点的温度控制在设定温度±1℃的范围内，最大可以达到±0.03℃，是目前研究……

　　光刻匀胶机全机身采用SUS304不锈钢，防酸、防碱、防盐雾。吸附力可调，带真空压力表头实时显示真空吸附状态，是一种专用于光刻胶涂布和均匀化的匀胶设备。光刻匀胶机能够将光刻胶均匀地涂布在硅片或其他基材上，并确保胶层的厚度……

　　匀胶机又称甩胶机、旋转涂膜机、旋转涂胶机、旋转涂布机主要用于晶片涂光刻胶用或溶胶-凝胶实验中的薄膜制备。匀胶机的基本原理是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，膜的厚度与胶……

　　控温型智能程控匀胶机机身结构： 整机为不锈钢设计，耐酸碱，抗冲击，抗腐蚀，面板按键为不锈钢防水设计，使整个机身坚固耐用，清洗方便。控制显示：设备配置 3.5 英寸全彩触摸屏，中文操作界面，操作简单、快捷，匀胶模式： 用户……

　　匀胶烤胶机适用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺，主要应用于溶胶-凝胶(sol-gel)实验中的薄膜制作，其工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂布在基片上，厚度视不同胶液……

　　自动滴胶匀胶机主要用于液体，胶体在材料表面薄膜的形成，智能嵌锁，系统盖板具有智能嵌锁装置，确保操作安全;防腐装置，设有保护气体装置，旋涂过程中对旋转马达进行气流保护，通信接口，蓝牙连接;适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷……

　　匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。下面就常用几款 匀胶机 价格列表……