真空加热炉
- 真空加热炉为桌面式高温加热台。用于少量样品功能陶瓷、光学材料、碳复合材料、硬质合金、粉末冶金,在高温条件下进行烧结处理,也可用于对样……
产品详细
真空加热炉为桌面式高温加热台。用于少量样品功能陶瓷、光学材料、碳复合材料、硬质合金、粉末冶金,在高温条件下进行烧结处理,也可用于对样品高温真空环境的电信号测试。显微镜真空高低温热台的组成,显微镜:用于观察实验样品,提供清晰、详细的视野。真空系统:创造高真空环境,确保实验的准确性和可靠性。高低温技术:通过液氮等制冷剂实现快速降温和加热。加热系统:采用直流线性电源加热技术,实现均匀加热。控制系统:通过计算机控制整个实验过程,实现自动化操作。

一: 高温加热台结构说明:
1、真空腔体:主体材质304不锈钢 水冷
2、真空接口:抽真空接口KF25 进气口6mm快拧 出气口8mm宝塔
3、加热及隔热:加热元件 碳化硅 氧化铝不锈钢属热屏蔽罩。
4、炉门:水冷。
5、温控箱:普通碳钢表面喷塑处理

二: 显微镜真空高温热台主要技术要求
1:额定功率:≤1.2KW
2:额定温度:1150℃,长期使用温度≤1150℃(钨丝加热 需在小于10Pa的真空环境下加热)
3:有效热台尺寸:55x55mm(台面加热)
4:真空观察窗口:Φ70mm
5:加热台材质:氧化铝
6:加热器:碳化硅

7:测温方式:S型热电偶
8:冷态极限真空:(机械泵≤5Pa冷态)(分子泵1x10-3pa冷态)
9:电源:AC220V 50HZ
10:温控器功能:30 段数显温度程序控温仪+功率调整电压器/超温报警/电流电压反馈
11:仪表控温精度:±1℃
12:升温速率:≤30℃/min

三:真空加热台主要配置 :
1:KF25波纹管1根
2:KF16放气阀1个;
3:KF16卡箍1套;
4:KF25卡箍1套;
5:聚四氟管6米;

四:产品应用范围:
真空高低温热台是一种在科研和实验中广泛使用的设备,特别适用于材料测试和生物学实验等领域。以下是其具体应用:
1.材料性能测试:在高温和真空环境下,测试材料的导热性、导电性和抵抗力等性能。
2.半导体制造:在半导体制造过程中,薄膜沉积、蚀刻等工艺步骤需要在严格控制的温度和真空环境下进行。
3.生物学研究:观察生物样品在不同温度和真空环境下的反应和行为,例如酵素活性和细胞生长。
4.产品测试:用于复杂的产品生命周期测试设计,检测产品在真空及各种温度环境下的可靠性和耐久性。