旋转涂胶机,12000转/分钟,北京赛德凯斯,转速稳定度，旋转涂胶机 选择深圳邦企创源科技,升级型旋转涂胶机 适应于半导体硅片,载玻片,晶片,ITO导电玻璃等工艺.转速调节范围50-12000转/分钟,转速稳定度可达±0.5%

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　　PP防腐12英寸匀胶机利用高速旋转产生的离心力来涂覆膜料的设备。本PP防腐12英寸匀胶机采用工业级大功率伺服电机，转速达5000RPM，可支持12寸直径的基片。详情介绍：

　　PP防腐12英寸匀胶机 本型号采用工业级大功率伺服电机，可实现更好的稳定性和均匀性，*大支持12寸直径的基片。

　　旋涂仪也称匀胶机，是利用高速旋转产生的离心力来涂覆膜料的设备。匀胶机可以将液态或胶体材料涂覆在硅片、晶体、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要应用于光刻胶旋涂、生物培养基制作、溶胶凝胶法制作高分子薄膜等领域。

　　防腐匀胶机技术参数：

名称	匀胶机
型号	TN-SPC12-C
特点	工业级大功率伺服电机转速可达5000RPM 支持12寸直径的基片 可储存5条曲线，每条曲线五段参数 无油真空泵，真空吸附
技术参数	1.输入电源 AC220V, 50Hz 2.腔体材料 PP 3.样品尺寸 直径≤12英寸 4.转速 0~5000rpm 5.转速分辨率 1rpm 6.单步时间 3000s 7.操作方式 7英寸高清LCD触控屏 8.滴胶方式 手动滴胶 9.匀胶曲线 可储存5条曲线，每条曲线五段参数 10.样品托 真空吸附型 12.真空泵 无油真空泵，泵抽速 50L/min 13.总重 40kg

　　旋涂清洁具体步骤：

　　旋涂在基板清洁中的应用及其具体步骤。尽管旋涂清洁通常效果不如声波浴，并且速度较慢，但在某些情况下(如HMDS和其他表面改性处理)，旋涂清洁和洗涤步骤仍然非常有效。

　　旋涂可用于去除某些添加剂。旋转洗涤过程中，研究人员使用中等体积的溶剂(如50 µl)，并进行多次洗涤。然而，需要注意的是，未去除多余溶剂可能导致大量蒸汽，进而影响后续薄膜的干燥过程。

　　旋涂也可用于清洁基板，但经验是，与基于声波浴的清洁相比，它通常产生相对较差的结果，并且与一次清洁一批基板相比速度较慢。它还经常导致在旋涂机中使用大量溶剂，如果在需要去除溶剂的环境(例如层流)中执行这些步骤，这可能是一个问题。

　　然而，有时旋转清洁和洗涤步骤可能非常有用，例如 HMDS 和某些其他表面改性处理可以从旋转洗涤中受益。同时，旋涂半正交溶剂也可用于去除某些添加剂。