晶圆热板台对晶圆、玻璃基板等的超薄工件进行均匀加热，晶圆均匀加热装置是一种特殊设计的均匀加热装置。晶圆烤盘为保证晶圆高温测试精度，要求整个吸盘表面各点的温度控制在设定温度±1℃的范围内，最大可以达到±0.03℃，是目前研究……

　　光刻匀胶机全机身采用SUS304不锈钢，防酸、防碱、防盐雾。吸附力可调，带真空压力表头实时显示真空吸附状态，是一种专用于光刻胶涂布和均匀化的匀胶设备。光刻匀胶机能够将光刻胶均匀地涂布在硅片或其他基材上，并确保胶层的厚度……

　　匀胶机又称甩胶机、旋转涂膜机、旋转涂胶机、旋转涂布机主要用于晶片涂光刻胶用或溶胶-凝胶实验中的薄膜制备。匀胶机的基本原理是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，膜的厚度与胶……

　　控温型智能程控匀胶机机身结构： 整机为不锈钢设计，耐酸碱，抗冲击，抗腐蚀，面板按键为不锈钢防水设计，使整个机身坚固耐用，清洗方便。控制显示：设备配置 3.5 英寸全彩触摸屏，中文操作界面，操作简单、快捷，匀胶模式： 用户……

　　匀胶烤胶机适用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺，主要应用于溶胶-凝胶(sol-gel)实验中的薄膜制作，其工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂布在基片上，厚度视不同胶液……

　　自动滴胶匀胶机主要用于液体，胶体在材料表面薄膜的形成，智能嵌锁，系统盖板具有智能嵌锁装置，确保操作安全;防腐装置，设有保护气体装置，旋涂过程中对旋转马达进行气流保护，通信接口，蓝牙连接;适用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷……

　　匀胶机适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ITO导电玻璃等工艺，制版的表面涂覆。该产品具有转速稳定和启动迅速等优点，并能保证半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性。通常配真空泵一起使用。下面就常用几款 匀胶机 价格列表……

　　真空旋转涂膜机ET-200PV适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空，使样品在完全真空的状态下进行涂膜，适用于在空气中易氧化变质的薄膜材料的……

　　全自动多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜，半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机实现滴胶、旋涂、烘干的整个过程自动完成;可同时交替涂覆两种薄膜，两种液体各交替多500次，实现千层薄膜的涂覆。本机可用于酸……