全自动多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜，半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机实现滴胶、旋涂、烘干的整个过程自动完成;可同时交替涂覆两种薄膜，两种液体各交替多500次，实现千层薄膜的涂覆。本机可用于酸、碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配不同尺寸的真空吸盘，可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘，利用真空吸附的方式固定基片。该机主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。

　　钙钛矿旋转涂层机主要特点：

　　1、真空吸附方式固定样件，操作简便。

　　2、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置，以减少偏心而造成的震动或飞片。

　　3、根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。

　　4、电机采用24V直流无刷电机，可靠性高，适应性强，维修与保养简单，噪音低，震动小，运转平稳，启动快速稳定，加速后运行平稳，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。

　　5、采用无油真空泵，体积小巧、结构简单、操作容易、维护方便、不会污染环境等优点。

　　6、腔体采用聚四氟乙烯材质，使用寿命更长，耐化学腐蚀性和优异的抗应力开裂性能;机身采用钣金结构，结实耐用且质轻。

　　7、加热后可通气体进行快速冷却。

　　8、中文操作界面(全英文操作系统可选)

　　9、具有开盖保护功能，当涂膜过程中或涂膜结束时打开上盖后机器立刻迅速减速直到停止。

　　10、控制界面采用触摸屏控制，操作简单方便，显示直观。

　　11、全自动的涂膜过程：自动滴胶、自动通气、自动旋涂、自动烘干。

　　12、可两种液体交替涂膜，可涂1000层薄膜。

　　旋转涂层机技术参数：

产品名称	ET-100ML全自动多层钙钛矿旋转涂层机
产品型号	ET- -100ML
安装条件	本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：不需要 2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地。 3、气：压缩气体货自行规定的保护气体 4、工作台：尺寸600mm×600mm×900mm，承重50kgs以上
主要参数	1、电源：主机24V 蠕动泵24V 加热：220V 50HZ 2、功率：总功率1200W 加热：1350W 3、旋转转速：500-10000rpm(*小增量为1rpm。) 4、运行程序：该机每次涂膜可分AB两组运行程序完成，每组程序分为六段运行，每组程序可循环500次，两组程序*多可涂1000层薄膜。 5、增减速率设置范围：10rpm/s-2000rpm/s(增量为10的整数倍) 6、加热功能： 加热范围：RT-200℃（腔体采用耐热耐腐蚀的聚四氟材质）(碳纤维加热管) 7、聚四氟真空吸盘和铝制吸盘，规格：1英寸，2英寸，4英寸。
产品规格	8、产品规格： ·尺寸：旋涂机450x400x580mm;蠕动泵270x310x280mm； ·重量：50kg

涂膜机标准配件

序号	名称	数量	图片链接
1	真空吸盘（含O型圈）	6个（Ø25.4mm、Ø50.8mm、Ø101.6mm）
2	中心定位器	3个
3	滴胶注射器（20ml）	2个
4	微量蠕动泵	1套
5	无油真空泵	1台

可选配件  

序号	名称	功能类别	图片链接
1	其它尺寸的真空吸盘	（可选）
2	静音无油空气压缩机	（可选）

　

　　旋转涂层机 适用于微电子,半导体,制版,新能源,生物材料,薄膜,光学及表面涂覆工艺,公司主要产品有旋转涂层机,烤胶机,紫外固化机等系列产品,产品规格多样,价格合理

　　涂膜机的概述

　　涂膜机是一种应用广泛的机械设备，其主要作用是在各种材料表面上形成一层均匀的薄膜。涂膜机应用于许多行业，例如电子、光学、医疗、冶金和化工等领域，可以用于制造各种材料和产品。

　　涂膜机的构造基本相同，它们通常是由进料系统、涂布系统、烘干系统和卸料系统组成。进料系统将原材料供给到涂布系统，在涂布系统中，涂料通过喷雾、辊涂或其它方式均匀地涂布在材料表面上。

　　烘干系统负责将涂料在材料表面上干燥，卸料系统则将表面涂层卸下并收集起来。涂膜机的不同之处在于其涂层技术。 例如，有些涂膜机使用真空蒸发技术来制造高质量的无机薄膜，而另一些涂膜机则使用离子束沉积技术来制造多层复合材料。

　　涂膜机的应用是非常重要的。例如，在电子行业中，涂膜机用于制造晶体管和电容器，这些元件需要均匀的绝缘层来保护其电路功能。

　　在医疗领域中，涂膜机可用于生产人造关节和牙科医疗设备，其表面必须兼具耐磨性和耐腐蚀性。在光学领域中，为了制造具有高透明度和光学性能的材料，涂膜技术也非常重要。

　　总之，涂膜机在现代工业生产中具有重要的应用价值，在不断发展和**中，已经成为各种行业中不可或缺的一部分。